浙江天芯半导体有限公司

掩模版Photomask

集成电路半导体制造过程中的图形转移母版掩模版（Photomask）又称光罩、光掩模、光刻掩模版等，是半导体芯片制造过程中的图形转移工具或母版，是图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。

在光刻过程中，掩模版是设计图形的载体。通过光刻，将掩模版上的设计图形转移到光刻胶上，再经过刻蚀，将图形刻到衬底上，从而实现图形到硅片的转移，功能类似于传统照相机的“底片”，承载了电子电路的核心技术参数。